U2000/17 曝光機
具體成交價以合同協議為準
- 公司名稱 北京優仕錦科技發展有限公司
- 品牌
- 型號 U2000/17
- 產地
- 廠商性質 生產廠家
- 更新時間 2017/11/18 17:27:33
- 訪問次數 552
產品標簽
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曝光機,
URE-2000/17型光刻機技術性能與配置
該光刻機技術特征
1．光學系統：采用多點反射鏡聚光和實現均勻照明，反射鏡采用梯形反射鏡，國內其他機型采用矩形反射鏡，URE-2000/17具有更高的能量收集效率（Ф100mm范圍內功率密度大于6mW/cm²）和照明均勻性（Ф100mm范圍內均勻性可達±4%，國內同類一般低于±4%）。波長單一，光譜純凈。
2.照明光源汞燈:采用進口直流高壓汞燈，光功率穩定。
3．操作十分方便：
（1）抽拉式掩模，同一塊掩模多次曝，無須上下掩模。
（2）觸摸開關操作，手感好，參數設置方便。
（3）數字設定曝光時間，倒計時曝光，曝光量可精確控制。
4．工藝適應性非常好，可適應的片子范圍可達f10-f100mm的各種規則和不規則片,厚度可適應0.1mm—8mm。
掩模可適應2.5英寸、3英寸、4英寸、5英寸。這些所需的樣片臺和掩模吸盤均免費提供。國內同類大部分的樣片臺和掩模吸盤要么不能提供，要么收費提供。
5.對準顯微鏡：高倍率雙目雙視場顯微鏡和19英寸寬屏液晶顯示同時觀察對準過程，既保證大視場又保證高倍率（zui大倍率可達700倍）并提供USB輸出；既滿足高精度對準，又可用于檢測曝光結果，且曝光結果和方便存儲。國內同類采用兩個簡易的單筒顯微鏡+CCD，不能目視，既不方便兩個視場觀測對準標記，在保證高倍率時不能保證大視場，保證大視場則不能保證高倍率。
6． 附件：真空泵配置無油干泵，既無污染，噪音也小。
7．外型：漂亮
（1） 計算機色套紅色，非常漂亮（是其它廠商無法比的）
（2） 80%以上零件采用防繡材料，其余材料采用表面處理方法。
（3） 人機操作十分舒適
（4） 氣管、電線：走暗線（國內同類一般管線凌亂）
8.品牌優勢，該光刻機型號占有zui大*，已經出口過6臺，售后服務有保證。
二．主要技術參數l 曝光面積：Ф100mm；
1、分辨力：1.7mm（膠厚2mm的正膠）；
2、對準精度：±1mm；
3、掩模樣片整體運動范圍：X：6mm;Y:6mm；
4、 掩模尺寸：2.5英寸、3英寸、4英寸、5英寸；
5、樣片尺寸：直徑Ф15mm--Ф100mm、厚度0.1mm--6mm（可擴展為15mm）；
該光刻機技術特征
1．光學系統：采用多點反射鏡聚光和實現均勻照明，反射鏡采用梯形反射鏡，國內其他機型采用矩形反射鏡，URE-2000/17具有更高的能量收集效率（Ф100mm范圍內功率密度大于6mW/cm²）和照明均勻性（Ф100mm范圍內均勻性可達±4%，國內同類一般低于±4%）。波長單一，光譜純凈。
2.照明光源汞燈:采用進口直流高壓汞燈，光功率穩定。
3．操作十分方便：
（1）抽拉式掩模，同一塊掩模多次曝，無須上下掩模。
（2）觸摸開關操作，手感好，參數設置方便。
（3）數字設定曝光時間，倒計時曝光，曝光量可精確控制。
4．工藝適應性非常好，可適應的片子范圍可達f10-f100mm的各種規則和不規則片,厚度可適應0.1mm—8mm。
掩模可適應2.5英寸、3英寸、4英寸、5英寸。這些所需的樣片臺和掩模吸盤均免費提供。國內同類大部分的樣片臺和掩模吸盤要么不能提供，要么收費提供。
5.對準顯微鏡：高倍率雙目雙視場顯微鏡和19英寸寬屏液晶顯示同時觀察對準過程，既保證大視場又保證高倍率（zui大倍率可達700倍）并提供USB輸出；既滿足高精度對準，又可用于檢測曝光結果，且曝光結果和方便存儲。國內同類采用兩個簡易的單筒顯微鏡+CCD，不能目視，既不方便兩個視場觀測對準標記，在保證高倍率時不能保證大視場，保證大視場則不能保證高倍率。
6． 附件：真空泵配置無油干泵，既無污染，噪音也小。
7．外型：漂亮
（1） 計算機色套紅色，非常漂亮（是其它廠商無法比的）
（2） 80%以上零件采用防繡材料，其余材料采用表面處理方法。
（3） 人機操作十分舒適
（4） 氣管、電線：走暗線（國內同類一般管線凌亂）
8.品牌優勢，該光刻機型號占有zui大*，已經出口過6臺，售后服務有保證。
二．主要技術參數l 曝光面積：Ф100mm；
1、分辨力：1.7mm（膠厚2mm的正膠）；
2、對準精度：±1mm；
3、掩模樣片整體運動范圍：X：6mm;Y:6mm；
4、 掩模尺寸：2.5英寸、3英寸、4英寸、5英寸；
5、樣片尺寸：直徑Ф15mm--Ф100mm、厚度0.1mm--6mm（可擴展為15mm）；
照明均勻性：±4%（Ф100mm范圍）；
6、掩模相對于樣片運動行程：X:±5mm; Y:±5mm; q: ±6度；
7、汞燈功率：200W（直流）；
8、曝光波長：365nm；
9 曝光能量密度：6mW/cm；l 曝光方式：定時（倒計時方式）。
6、掩模相對于樣片運動行程：X:±5mm; Y:±5mm; q: ±6度；
7、汞燈功率：200W（直流）；
8、曝光波長：365nm；
9 曝光能量密度：6mW/cm；l 曝光方式：定時（倒計時方式）。
應用領域
集成電路芯片、電子封裝、微電子機械系統、微光學元件、紅外探測器、生物電泳芯片、激光二極管光刻、光柵光刻，波導陣列光刻、液晶顯示、聲表器件、平板顯示器、大尺寸光柵、
集成電路芯片、電子封裝、微電子機械系統、微光學元件、紅外探測器、生物電泳芯片、激光二極管光刻、光柵光刻，波導陣列光刻、液晶顯示、聲表器件、平板顯示器、大尺寸光柵、
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