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Plasma Process Cluster 多腔等離子體工藝系統(tǒng)

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公司主要銷售實(shí)驗(yàn)室儀器儀表、實(shí)驗(yàn)室儀器設(shè)備、散熱材料、增材制造設(shè)備、電氣設(shè)備、電子產(chǎn)品、通訊器材、機(jī)械配件、通訊器材、電腦軟硬件、機(jī)械配件、非標(biāo)自動(dòng)化設(shè)備、五金工具、實(shí)驗(yàn)耗材和試劑(不含危險(xiǎn)化學(xué)品)、激光儀器及輔助設(shè)備;

電氣設(shè)備、信息系統(tǒng)設(shè)計(jì)、集成;工程管理服務(wù);單晶硅、碳化硅、立方氮化硼、石墨烯、石墨炔、碳納米管技術(shù)開(kāi)發(fā)、技術(shù)轉(zhuǎn)讓和檢驗(yàn)檢測(cè)服務(wù);

計(jì)算機(jī)軟硬件及輔助設(shè)備、信息系統(tǒng)軟件、非標(biāo)自動(dòng)化設(shè)備的租賃和維修;

銷售醫(yī)療器械、文化辦公用品、五金交電、機(jī)械設(shè)備、監(jiān)控設(shè)備、建筑材料、裝飾材料、辦公室用品;第二類醫(yī)療器械經(jīng)營(yíng)、第三類醫(yī)療器械經(jīng)營(yíng);依托進(jìn)口核心產(chǎn)品做研發(fā):

團(tuán)隊(duì)是由深圳大學(xué)從事材料,光學(xué),生物團(tuán)隊(duì)組成,目前核心創(chuàng)始人3位,分別負(fù)責(zé)材料,生物和光電領(lǐng)域,分別提供相應(yīng)配套設(shè)施以及技術(shù)解決方案等;業(yè)務(wù)目前主要覆蓋東莞,深圳,惠州,廣州等整個(gè)廣東地區(qū),可快速抵達(dá)廣東所在區(qū)域提供技術(shù)支持和服務(wù)。

目前典型服務(wù)客戶有:清華大學(xué)深圳國(guó)際研究生院,哈爾濱工業(yè)大學(xué)(深圳),南方科技大學(xué),深圳大學(xué),深圳技術(shù)大學(xué),北京大學(xué)深圳研究生院,松山湖材料實(shí)驗(yàn)室,大灣區(qū)大學(xué)(籌),東莞理工學(xué)院,中山大學(xué),暨南大學(xué),華南理工大學(xué),廣東工業(yè)大學(xué)等

純水機(jī),離心機(jī),旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀,光譜儀,質(zhì)譜儀,頻譜儀,示波器,掃描電子顯微鏡,電化學(xué)工作站,,流式細(xì)胞儀,手套箱,磁控濺射

l   方案是適用于 8 吋晶圓的多腔等離子體沉積/刻蝕工藝系統(tǒng)

l   系統(tǒng)可用于研發(fā)和小批量生產(chǎn)

l   系統(tǒng)兼容 8 吋、6 吋、4 吋、3 吋晶圓和不規(guī)則碎片;不同尺寸樣片之間的切換、無(wú)需反應(yīng)腔的開(kāi)腔破真空

l   系統(tǒng)包括:

一個(gè)六端口的轉(zhuǎn)接腔、帶機(jī)械手

六個(gè)端口分別連接:

1)一個(gè) ALE 刻蝕腔模塊:用于 Al2O3, AlGaN, GaN 等的原子層刻蝕

2)一個(gè)ICPECVD 沉積腔模塊:用于沉積氧化硅、氮化硅、氮氧硅等介質(zhì)膜

3)一個(gè)低溫 ICP-RIE 刻蝕腔模塊:配氟基氣體,主要用于低溫深硅刻蝕、常溫鍺刻蝕等

4)一個(gè) loadlock 預(yù)真空室模塊:用于單片樣品的手動(dòng)送樣

5)一個(gè)真空片盒站模塊:用于多片片盒的自動(dòng)送樣

6)一個(gè)端口備用,未來(lái)可升級(jí)增加 1 個(gè)刻蝕或沉積反應(yīng)腔模塊




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