化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器>其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備>其它半導(dǎo)體設(shè)備> Plasma Process Cluster 多腔等離子體工藝系統(tǒng)
Plasma Process Cluster 多腔等離子體工藝系統(tǒng)
- 公司名稱 研啟科學(xué)儀器(東莞)有限公司
- 品牌
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2024/10/22 15:56:24
- 訪問(wèn)次數(shù) 36
聯(lián)系方式:余純博18772609610 查看聯(lián)系方式
聯(lián)系我們時(shí)請(qǐng)說(shuō)明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,謝謝!
純水機(jī),離心機(jī),旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀,光譜儀,質(zhì)譜儀,頻譜儀,示波器,掃描電子顯微鏡,電化學(xué)工作站,,流式細(xì)胞儀,手套箱,磁控濺射
l 方案是適用于 8 吋晶圓的多腔等離子體沉積/刻蝕工藝系統(tǒng)
l 系統(tǒng)可用于研發(fā)和小批量生產(chǎn)
l 系統(tǒng)兼容 8 吋、6 吋、4 吋、3 吋晶圓和不規(guī)則碎片;不同尺寸樣片之間的切換、無(wú)需反應(yīng)腔的開(kāi)腔破真空
l 系統(tǒng)包括:
一個(gè)六端口的轉(zhuǎn)接腔、帶機(jī)械手
六個(gè)端口分別連接:
(1)一個(gè) ALE 刻蝕腔模塊:用于 Al2O3, AlGaN, GaN 等的原子層刻蝕
(2)一個(gè)ICPECVD 沉積腔模塊:用于沉積氧化硅、氮化硅、氮氧硅等介質(zhì)膜
(3)一個(gè)低溫 ICP-RIE 刻蝕腔模塊:配氟基氣體,主要用于低溫深硅刻蝕、常溫鍺刻蝕等
(4)一個(gè) loadlock 預(yù)真空室模塊:用于單片樣品的手動(dòng)送樣
(5)一個(gè)真空片盒站模塊:用于多片片盒的自動(dòng)送樣
(6)一個(gè)端口備用,未來(lái)可升級(jí)增加 1 個(gè)刻蝕或沉積反應(yīng)腔模塊