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TFS 200原子層沉積ALD
- 公司名稱 研啟科學(xué)儀器(東莞)有限公司
- 品牌
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2024/10/22 15:53:43
- 訪問(wèn)次數(shù) 64
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純水機(jī),離心機(jī),旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀,光譜儀,質(zhì)譜儀,頻譜儀,示波器,掃描電子顯微鏡,電化學(xué)工作站,,流式細(xì)胞儀,手套箱,磁控濺射
一、簡(jiǎn)介:TFS 200 是一款適用于科學(xué)研究和企業(yè)研發(fā)的最靈活的 ALD 平臺(tái),是為多用戶研究環(huán)境中將可能發(fā)生的交叉污染降至而特別設(shè)計(jì)的。
TFS 200 不僅可以在晶圓,平面物體上鍍膜,還適用于粉末,顆粒,多孔的基底材料,或是有高深徑比的3D物體內(nèi)沉積高保形薄膜。
直接和遠(yuǎn)程等離子體沉積 (PEALD) 可作為TFS 200 的標(biāo)準(zhǔn)選項(xiàng)。等離子體是電容性耦合(CCP),這是當(dāng)今的工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。等離子體選件可為直徑200毫米的基板(面朝上或面朝下)提供直接和遠(yuǎn)程等離子體增強(qiáng)沉積 (PEALD)
二、技術(shù)參數(shù):
循環(huán)周期小于2秒。在特定的條件下可以小于1秒。
高深徑比(HAR)選項(xiàng)適用于通孔和多孔的基底材料。
可快速加熱和冷卻的冷壁真空反應(yīng)腔。
安裝在真空反應(yīng)腔的輔助接口可實(shí)現(xiàn)等離子體和在線診斷等。
加載鎖可用于快速更換基底材料并與其他設(shè)備集成