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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>其它半導體行業儀器設備>其它半導體設備> 反應性離子刻蝕系統RIE

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反應性離子刻蝕系統RIE

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公司主要銷售實驗室儀器儀表、實驗室儀器設備、散熱材料、增材制造設備、電氣設備、電子產品、通訊器材、機械配件、通訊器材、電腦軟硬件、機械配件、非標自動化設備、五金工具、實驗耗材和試劑(不含危險化學品)、激光儀器及輔助設備;

電氣設備、信息系統設計、集成;工程管理服務;單晶硅、碳化硅、立方氮化硼、石墨烯、石墨炔、碳納米管技術開發、技術轉讓和檢驗檢測服務;

計算機軟硬件及輔助設備、信息系統軟件、非標自動化設備的租賃和維修;

銷售醫療器械、文化辦公用品、五金交電、機械設備、監控設備、建筑材料、裝飾材料、辦公室用品;第二類醫療器械經營、第三類醫療器械經營;依托進口核心產品做研發:

團隊是由深圳大學從事材料,光學,生物團隊組成,目前核心創始人3位,分別負責材料,生物和光電領域,分別提供相應配套設施以及技術解決方案等;業務目前主要覆蓋東莞,深圳,惠州,廣州等整個廣東地區,可快速抵達廣東所在區域提供技術支持和服務。

目前典型服務客戶有:清華大學深圳國際研究生院,哈爾濱工業大學(深圳),南方科技大學,深圳大學,深圳技術大學,北京大學深圳研究生院,松山湖材料實驗室,大灣區大學(籌),東莞理工學院,中山大學,暨南大學,華南理工大學,廣東工業大學等

純水機,離心機,旋轉蒸發儀,光譜儀,質譜儀,頻譜儀,示波器,掃描電子顯微鏡,電化學工作站,,流式細胞儀,手套箱,磁控濺射

v 為多種材料提供各向異性干法刻蝕工藝

v 兼容200mm以下所有尺寸的晶圓,快速更換到不同尺寸的晶圓工藝

v 電極的適用溫度范圍寬,-150°C400°C

v 應用方向:

? III-V族材料刻蝕工藝

? 固體激光器 InP刻蝕

? VCSEL GaAs/AlGaAs刻蝕

? 射頻器件低損傷 GaN刻蝕

? 類金剛石 DLC) 沉積

? 二氧化硅和石英刻蝕

? 用特殊配置的PlasmaPro FA設備進行失效分析的干法刻蝕解剖工藝,可處理封裝好的芯片, 裸晶片,以及200mm晶圓用于高亮度LED生產的硬掩模沉積和刻蝕




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