名稱（Name）

真空式等離子處理系統(tǒng)

型號(hào)（Model）

CRF-VPO-12L-S

控制系統(tǒng)（Control system）

PLC+觸摸屏

電源（Power supply）

380V/AC,50/60Hz, 7kw

中頻電源功率（RF Power）

1000W/40KHz/13.56MHz

容量（Volume ）

180L(Option)

層數(shù)（Electrode of plies ）

14(Option)

有效處理面積（Area）

490(L)*356(W)

氣體通道（Gas）

兩路工作氣體可選：Ar、N2、CF4、O2

外形（Appearance ）

鈑金結(jié)構(gòu)

產(chǎn)品特點(diǎn)
超大處理空間，提升處理產(chǎn)能，采用PLC+觸摸屏控制系統(tǒng)，精準(zhǔn)的控制設(shè)備運(yùn)行；
可按照客戶要求定制設(shè)備腔體容量和層數(shù)，滿足客戶的需求；保養(yǎng)維修成本低，便于客戶成本控制；
高精度，快響應(yīng)，良好的操控性和兼容性，完善的功能和專業(yè)的技術(shù)支持。
 
應(yīng)用范圍
真空等離子清洗機(jī)適用于印制線路板行業(yè)，半導(dǎo)體IC領(lǐng)域、等離子硅膠處理、塑膠處理、聚合體領(lǐng)域，汽車電子行業(yè)，航空工業(yè)等。印制線路板行業(yè)：高頻板表面活化，多層板表面清潔、去鉆污、軟板、軟硬結(jié)合板表面清潔、去鉆污，軟板補(bǔ)強(qiáng)前活化。半導(dǎo)體IC領(lǐng)域：COB、COG、COF、ACF工藝，用于打線、焊接前的清洗；硅膠、塑膠、聚合體領(lǐng)域：硅膠、塑膠、聚合體的表面粗化、等離子刻蝕、活化。

等離子體清洗機(jī)也有做不到的事情你了解嗎

等離子體清洗機(jī)在應(yīng)用中也有一定的制約因素存在，主要表現(xiàn)為以下幾點(diǎn)：
1.不能用這種方法除去物體表面的切削粉末，這點(diǎn)在清洗金屬表面油垢時(shí)表現(xiàn)尤為明(顯)。
2.實(shí)踐證明不能用它清楚很厚的油污，雖然用等離子體清洗少量附著在物體表面的油垢有很好的效(果)，但是對(duì)厚油垢的清(除)效(果)往往不好，一方面用它清(除)油膜，必須延長(zhǎng)處理時(shí)間，使清洗的成本大大提高，另一方面有可能是它在與厚油垢相互接觸的過程中，引發(fā)油垢分子結(jié)構(gòu)中的不飽和鍵發(fā)生了聚合，偶聯(lián)等復(fù)雜反應(yīng)而形成較堅(jiān)硬的樹脂化立體網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)有關(guān)。一旦形成這類樹脂膜他將很難被清(除)。因此通常只用等離子體清洗厚度在幾個(gè)微米以下的油污。
3.在應(yīng)用過程中還發(fā)現(xiàn)不能用等離子體清洗很好除去表面粘附的指紋，而指紋是玻璃光學(xué)元件上常出現(xiàn)的一種污染物。等離子體清洗也不完(全)不能用于出去指紋，但這需要延長(zhǎng)處理時(shí)間，這時(shí)又不得不考慮到這是他會(huì)對(duì)基材的性能造成不良的影響。所以還需要采用其他清洗措施進(jìn)行預(yù)處理相配合。結(jié)果使清洗工藝過程復(fù)雜化。
4.由于等離子體清洗過程需要進(jìn)行真空處理，而且一般為在線或批量生產(chǎn)，因此在把等離子體清洗裝置引進(jìn)生產(chǎn)線時(shí)，必須考慮到被清洗工件的貯存和移送的問題，特別是當(dāng)被處理工件體積較大，數(shù)量較多更應(yīng)考慮到這個(gè)問題。
綜上所訴可知：等離子體清洗技術(shù)適用于對(duì)物體表面的油，水及微粒等輕度油污進(jìn)行清洗，而且利于“速戰(zhàn)速?zèng)Q”的在線或批量清洗。
等離子清洗機(jī)在運(yùn)行時(shí)應(yīng)該要注意哪些事項(xiàng)：
1、正確設(shè)置等離子設(shè)備的運(yùn)行參數(shù),按時(shí)設(shè)備使用說明書來執(zhí)行;
2、保護(hù)好等離子體的點(diǎn)火裝置,以確保等離子清洗機(jī)可以正常的啟動(dòng);
3、等離子設(shè)備在啟動(dòng)前的準(zhǔn)備工作,要對(duì)相關(guān)的人員進(jìn)行培訓(xùn),同時(shí)確保操作等離子清洗機(jī)的人員可以按照要求嚴(yán)格執(zhí)行各項(xiàng)操作;
4、在一次風(fēng)管沒有通風(fēng)的時(shí)候,等離子體的發(fā)生器運(yùn)行時(shí)間不能超過設(shè)備說明書上面要求的時(shí)間,防止燒壞燃燒器,造成不必要的損失;
5、如果需要對(duì)等離子設(shè)備進(jìn)行維護(hù)時(shí)請(qǐng)將等離子發(fā)生器進(jìn)行斷電后再進(jìn)行相應(yīng)的操作。
等離子處理設(shè)備廣泛應(yīng)用于等離子清洗、刻蝕、等離子鍍、等離子涂覆、等離子灰化和表面改性等場(chǎng)合。通過其處理,能夠改善材料表面的潤(rùn)濕能力,使多種材料能夠進(jìn)行涂覆、鍍等操作,增強(qiáng)粘合力、鍵合力,同時(shí)去除有(機(jī))污染物、油污或油脂。