等離子清洗機真空腔體的組成包括一個反應腔室、電源和真空泵組。把需要處理的樣品放置反應腔室內，真空泵開始抽氣至一定的真空度，電源啟動便產生等離子體，然后氣體通入到反應腔室，使腔室中的等離子體變成反應等離子體，這些等離子體與樣品表面發生反應，生產可揮發的副產物，并由真空泵抽出。

（1）形成新的官能團--化學作用

如果放電氣體中引入反應性氣體，那么在活化的材料表面會發生復雜的化學反應，引入新的官能團，如烴基、氨基、羧基等，這些官能團都是活性基團，能明顯提高材料表面活性。

（2）對材料表面的刻蝕--物理作用

等離子體中的大量離子、激發態分子、自由基等多種活性粒子，作用到固體樣品表面，不但了表面原有的污染物和雜質，而且會產生刻蝕作用，將樣品表面變粗糙，形成許多微細坑洼，增大了樣品的比表面。提高固體表面的潤濕性能。

（3）鍵能，交聯，接枝作用
 

等離子清洗機產生的等離子體中的粒子能量在0~20eV，而聚合物中大部分的鍵能在0~10eV，因此等離子體作用到固體表面后，可以將固體表面的原有的化學鍵產生斷裂，等離子體中的自由基與這些鍵形成網狀的交聯結構，大大地了表面活性。

　　1、超大處理空間，提升處理產能，采用PLC 觸摸屏控制系統，的控制設備運行。

　　2、可按照客戶要求定制設備腔體容量和層數，滿足客戶的需求。

　　3、保養維修成本低，便于客戶成本控制。

　　4、高精度，快響應，良好的操控性和兼容性，完善的功能和專業的技術支持。

    等離子清洗機真空腔體利用等離子高能粒子與材料表面發生物理和化學反應，可以實現對材料表面進行激活、蝕刻、除污等工藝處理，以及對材料的摩擦因數、粘合和親水等各種表面性能進行改良的目的。最大特點是對金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料等都能很好地處理，可實現整體和局部以及復雜結構的清洗。真空等離子清洗設備已經廣泛適用于生物醫療行業，印制線路板行業，半導體IC領域，硅膠、塑膠、聚合體領域，汽車電子行業，航空工業等客戶提供表面處理整體解決方案，幫助客戶提高產品質量、提升生產效率，同時降低對環境的不良影響。

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