鋁塑膜處理等離子清洗設(shè)備：誠峰智造

 噴射型AP等離子處理系統(tǒng)CRF-APO-R＆D-XXXD

名稱（Name）

噴射型AP等離子處理系統(tǒng)（Jet type plasma processing system）

等離子電源型號(hào)（Plasma power   model）

CRF-APO-R＆D-XXXD

電源（Power supply）

220V/AC,50/60Hz

功率（Power）

600W/25KHz（Option）

功率因素（Power factor）

0.8

處理高度（Processing   height）

5-15mm

處理寬幅（Processing width）

直噴式（Direct jet type）：1-6mm（Option）

旋噴式（Potary jet type）：20mm~80mm

內(nèi)部控制模式（Internal control mode）

數(shù)字控制（Digital control）

外部控制模式（External conteol mode）

啟停I/O（ON/OFF I/O）

工作氣體（Gas）

Compressed Air （0.4mpa）/N2（0.2mpa）

電源重量（Power weight）

8kg

產(chǎn)品特點(diǎn)： 可選配多種類型等離子噴槍和噴嘴，使用于不同場合，滿足各種不同產(chǎn)品和處理環(huán)境；

設(shè)備尺寸小巧，方便攜帶和移動(dòng)，節(jié)省客戶使用空間；

可In-Line式安裝于客戶設(shè)備產(chǎn)線中，減少客戶投入成本；

使用壽命長，保養(yǎng)維修成本低，便于客戶成本控制。

應(yīng)用范圍：主要應(yīng)用于電子行業(yè)的手機(jī)殼印刷、涂覆、點(diǎn)膠等前處理，手機(jī)屏幕的表面處理；工業(yè)的航空航天電連接器表面清洗；通用行業(yè)的絲網(wǎng)印刷、轉(zhuǎn)移印刷前處理等。

鋁塑膜處理等離子清洗設(shè)備

 等離子體清潔器又稱等離子清洗器，或等離子表面處理器，是一種全新的高科技技術(shù)，它利用等離子體來達(dá)到常規(guī)清洗無法達(dá)到的效果。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也稱為物質(zhì)的第四態(tài)，不屬于通常所說的固體氣體三態(tài)。把足夠的能量加到氣體上，使其離化便變成等離子狀態(tài)。等離子中的“活性”成分包括：離子、電子、原子、活化基團(tuán)、激發(fā)態(tài)(亞穩(wěn)態(tài))和光子等。等離子清洗機(jī)是利用這些活性成分的特性對(duì)樣品進(jìn)行表面處理，從而達(dá)到清洗、涂布等目的。
等離子體就像固體、液體或氣體一樣，是一種物質(zhì)狀態(tài)，也稱為第四態(tài)。把足夠的能量加到氣體上，使其離化便變成等離子狀態(tài)。等離子體中的“活性”成分包括：離子、電子、活基、激發(fā)態(tài)(亞穩(wěn)態(tài))和光子等。等離子表面處理儀是利用這些活性成分的性質(zhì)對(duì)樣品表面進(jìn)行處理，從而達(dá)到凈化、改性、光刻膠灰化等目的。
按照等離子清洗機(jī)的清洗方法的不同標(biāo)準(zhǔn)，可分為：真空狀態(tài)等離子清洗、常壓狀態(tài)等離子清洗、低溫清洗清洗；也可根據(jù)工作氣體的不同，分為：空氣等離子清洗機(jī)、氮?dú)獾入x子清洗機(jī)等。
實(shí)際上低溫等離子設(shè)備也算是干洗法中的一種，與濕洗法相比它具有工藝簡單、受控、產(chǎn)品能達(dá)到一次性洗凈、無殘留物等優(yōu)點(diǎn)。
而且濕洗法其大的缺點(diǎn)可能是一次性洗不干凈，還會(huì)有殘?jiān)玫入x子設(shè)備干洗它的反應(yīng)需要?dú)怏w，而我們使用的氣體大部分是無毒的，而且濕洗法很多是使用大量的溶劑，其中也含有許多對(duì)人體有害的化學(xué)成分，對(duì)環(huán)境也會(huì)有影響。
利用等離子清洗機(jī)進(jìn)行等離子體處理時(shí)，包含了兩個(gè)清洗過程，一個(gè)是化學(xué)清洗，另一個(gè)是物理清洗。
其中以化學(xué)反應(yīng)為主的等離子清洗機(jī)，具有很快的清洗速度，很好的性能和選擇性，在去除有機(jī)物，氧化物，以及做表面活化等方面有很好的效果。