瑞士Sawatec Leaflet_ispay-300_cn 3D微觀結構的均勻噴涂

針對具備高度結構化晶圓形貌、深度 MEMS 結構或不平整表面特征的基板，SAWATEC   公司的 iSPRAY 能夠確保盡可能均勻的噴涂效果。它是一款精密的噴膠機，適用于手動噴涂或噴霧顯影工藝，主要被應用于研究與開發實驗室，尤其是 MEMS 加工的試產和小量產場合。

經過工藝優化的噴嘴能夠結合低粘度的、特別適用于噴涂作業的光刻膠(例如 Shipley1813、AZ 4999、AZ 9260、SU8  等)生成精細的小液滴。在一個封閉式工藝室中噴嘴經由“弓”字型行進路徑進行噴涂，由此可以確保整個基板表面上均勻的噴涂效果以及高度可再現性。該設備可用于圓形或正方形基板，多可同時噴涂 4  個晶基
 

功能（基本配置）
。可編程，多 50 個程序(各包含 24 個程序段)

。適用于重復工藝的快速啟動功能

。觸摸屏面板控制，方便用戶程序配置

。工藝參數：噴嘴行進路徑，噴灑臂速度，噴灑時間，錐形束形狀電氣驅動的噴灑臂，其在 X 或 Y 軸方向上的速度可選

。可調整的噴嘴，具有恒定的噴灑壓力和自動的清潔功能

。手動裝卸基板

。工藝結束時的聲音信號

性能數據

。噴灑量：(50 cl) 容量的緩沖裝置，結合具有液位檢查功能的給膠泵

。噴灑介質的粘度：0.3 至 25 cSt (µPas)

。噴嘴：液滴尺寸小于 7 微米，典型：3微米

。噴灑臂的速度和定位精度：大 0.4 m/s；±0.1mm

。每個分段的噴灑時間：長為9999 秒，調節步幅為 0.1 秒

。噴灑循環的數目：多 20 個曲回循環環境溫度：+4 至 +60°C

附加功能(可選項)

。加熱板高溫度為 150°C，可用加熱面為 Ø300mm

。旋轉卡盤大轉速為6,000rpm +/-1rpm 1)

。可加熱的旋轉卡盤，大轉速為 1,500 rpm， 高溫度為 150°C

。噴嘴用 Z 升降軸

附加裝備

X 與 Y 方向上標準的噴灑方式還可與一個轉動的旋轉卡盤(帶有或沒有加熱裝置)相結合，進而改善特定形貌上噴涂的分布情況以及提高噴涂全面性。

此外，還可以在 iSPRAY-300 上裝配一個加熱板。這樣一來，即使是高粘度的光刻膠也能對少量覆蓋的孔洞進行有效成形， 以及確保邊緣涂布。

設計和尺寸

。電解拋光不銹鋼制成的可移動機身

。不銹鋼制工藝腔體

。可觀察工藝過程的玻璃前門

。用于噴嘴定位的精密 AC 伺服電機

。尺寸：850 x 750 x 2333mm(長 x 寬 x 高) 重量：約220kg