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（1）產品簡述

（1.1）等離子清洗的作用

等離子清洗的作用原理主要是：

（A）對材料表面的刻蝕作用--物理作用

等離子體中的大量離子、激發態分子、自由基等多種活性粒子，作用到固體樣品表面，不但清除了表面原有的污染物和雜質，而且會產生刻蝕作用，將樣品表面變粗糙，形成許多微細坑洼，增大了樣品的比表面。提高固體表面的潤濕性能。

（B）激活鍵能，交聯作用

等離子體中的粒子能量在0~20eV，而聚合物中大部分的鍵能在0~10eV，因此等離子體作用到固體表面后，可以將固體表面的原有的化學鍵產生斷裂，等離子體中的自由基與這些鍵形成網狀的交聯結構，大大地激活了表面活性。

（C）形成新的官能團--化學作用

如果放電氣體中引入反應性氣體，那么在活化的材料表面會發生復雜的化學反應，引入新的官能團，如烴基、氨基、羧基等，這些官能團都是活性基團，能明顯提高材料表面活性。

（1.2）大氣線性等離子清洗的優勢

等離子清洗作為重要的材料表面改性方法，已經在眾多領域廣泛使用。

與傳統的一些清洗方法，如超聲波清洗、UV清洗等，具有以下優點：

（A）處理溫度低

處理溫度可以低至80℃、50℃以下，低的處理溫度可以確保對樣品表面不造成熱影響。

（B）處理全程無污染

等離子清洗機本身是很環保的設備，不產生任何污染，處理過程也不產生任何污染。

可以與原有生產流水線搭配，實現全自動在線生產，節約人力成本。

（C）處理效果穩定

等離子清洗的處理效果非常均勻穩定，常規樣品處理后較長時間內保持效果良好。

（D）可以*搭配自動化流水線，提高生產效率

根據用戶現場需求，配置流水線生產方案，大大提高生產效率。

（1.2）產品原理

等離子清洗機的結構主要分為三大組成部分，分別是高壓激勵電源、等離子發生裝置噴槍、控制系統。

（A）高壓激勵電源：

等離子體的產生需要高壓激勵，大氣線性等離子采用射頻電源進行激勵，頻率為13.56MH，激勵均勻穩定。參數根據樣品實際情況可進行調節，已達到優秀的改性效果。

（B）等離子發生裝置噴槍：

大氣線性等離子發生裝置采用進口設計的放電裝置，放電效果均勻，處理高度高。

（C）控制系統：

控制系統作用在于控制整個大氣線性等離子清洗設備的運行，以及整體系統的保護。

（2）技術規格

（3）性能優勢

  線性等離子體系統，該系統是具有條帶處理能力的大容量緊湊型平臺。 系統使其前身的容量和吞吐量翻倍，而占地面積僅占16％。等離子體室具有較低的擁有成本，每等離子體循環可處理多達10條。 等離子體系統設計用于在裸片附著，引線鍵合，模具封裝和底部填充之前的等離子體處理。

  等離子體處理可消除污染，蝕刻表面以改善粘附性，并在電子制造過程中提供表面活化。通過等離子體處理的表面活化可以通過增強流體流動，消除空隙和增加芯吸速度來增強模具附著，模制，引線接合和底部填充。

  等離子體系統的集成條帶處理系統，為各種條帶尺寸提供快速可靠的材料傳輸。可以從大多數類型的雜志和運營商處理。腔體設計和控制系統能夠實現低等離子體循環時間，低開銷，確保吞吐量最大化，并將所有權成本降至最低。 CDS平臺的室內技術與CD平臺*相同，因此過渡到新的CDS平臺很容易。該系統具有1119 mm寬x 1286 mm深（44 x 51英寸）的緊湊型占地面積。

寬幅線性等離子清洗機-達因特