NIE-3000IBE離子束刻蝕
產地類別 | 進口 | 應用領域 | 醫療衛生,化工,生物產業,電子,制藥 |
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IBE離子束刻蝕
NIE-3000IBE離子束刻蝕產品概述:該系統為手動放片取片,但通過計算機全自動實現工藝控制的臺式離子束刻蝕系統,系統具有結構緊湊、功能強大、自動化程度高、模塊化設計易于維護、低成本的優勢。該系統所配套的所有核心組件均為。
NIE-3000IBE離子束刻蝕產品特點:
- 低成本
- 離子束:高達2KV/10mA
- 離子電流密度100-360uA/cm2
- 離子束直徑:4",5",6"
- 兼容反應及非反應氣體(Ar, O2, CF4,Cl2)
- 極限真空5x10-7Torr
- 260l/s渦輪分子泵,串接500 l/min干泵
- 14"不銹鋼或鋁質腔體
- 水冷旋轉/傾斜樣品臺(NIE-3500)
- 自動上下載片(NIE-3500)
- 基于LabView軟件的PC計算機全自動控制
- 占地面積30"x30"
產品應用:
- 表面處理
- 離子銑
- 表面清洗
- 帶活性氣體的離子束刻蝕: 光柵刻蝕,以及SiO2,Si和金屬的深槽刻蝕