產品介紹：P-5 X鋁質腔體等離子清洗機

P-50X鋁質腔體等離子清洗機具有P-5等離子體表面改性處理儀所有功能，但它具有更大的鋁質腔體：203毫米寬x  203毫米深D X 102毫米高，為專門等離子處理較大工件設計。專門用于小型生產企業、研發實驗室、檢測機構和科研院校。

縱覽

該專門用于小型生產企業、研發實驗室、檢測機構和科研院校。采用了防暴式203毫米寬x  203毫米深D X 102毫米高矩形鋁合金真空艙，并設置直接供電的射頻（RF）電極。 應用范圍包括醫療設備、太陽能電池、印刷電路板、連接器、微機電系統（MEMS）、納米技術、晶圓級封裝、以及許多其他相關的半導體工藝。

特點

正如所有，P-X5采用電容耦合（CCP）平行電極板設計，從而zui有效的產生等離子體。

與傳統玻璃/石英圓筒艙不同的是，這些競爭設備不能穿透真空艙，因此被限制只能使用感應耦合的RF線圈纏在腔室的外部。 這是設置一種低效率方式，導致輸入功率損失及相當低的蝕刻/清潔去除速率。

P-5X是由美國制造的部件組裝而成，我們提供的客戶服務和支持。

規格

標準配置
鋁合金真空艙尺寸：203毫米寬x  203毫米深D X 102毫米高
電極設置：單套 254毫米 X 127毫米 水平電極
射頻電源：125瓦@ 50 kHz 射頻電源
工藝氣體控制：精密針形閥流量控制0-25 CC /分鐘
真空監測系統：皮拉尼真空計0-1托
真空系統：5的CFM真空泵（可與氧氣等活性氣體適配）
工藝存儲：單處理順序

可選配配置
射頻電源：100W@13.56MHz射頻電源和自動匹配網絡
燈條
質量流量控制器（MFC）